哈西奈德溶液

哈西奈德溶液

二硫化硒洗劑

哈西奈德（氯氟舒鬆、哈西縮鬆）

主要成分為本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。輔料為;二氧化鈦、甘油皂土、檸檬酸洗淨劑、單硬脂酸甘油脂、十八醇、十二烷基硫酸鈉、磷酸氫二鈉、純化水。

河北九正藥業有限公司

上海新亞藥業高郵有限公司

國藥準字H19993626

國藥準字H10890059

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、麵積不大的銀屑病[1]、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非麵部）肥厚性瘢痕。

用於去頭屑、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬（汗斑）。

外塗患處每日早晚各一次。

1.治療頭皮屑和頭皮脂溢性皮炎。 (1)先用肥皂清洗頭發和頭皮。 (2)取5～10克藥液於濕發及頭皮上，輕揉至出泡沫。 (3)待3～5分鍾後，用溫水洗淨，必要時可重複一次。 (4)每周2次，一個療程2～4周，必要時可重複1個或2個療程。 2.治療花斑癬。 (1)洗淨患處。 (2)根據病患麵積取適量藥液塗抹(一般10至30克)。 (3)保留10～30分鍾後用溫水洗淨。 (4)每周2次，一個療程2～4周，必要時可重複1個或2個療程。

少數患者塗藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其麵部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮後繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

1.皮膚有炎症、糜爛、滲出部位禁用。 2.外生殖器部位禁用。

兒童注意事項： 兒童必須在成人的監護下使用。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚不明確。 老人注意事項： 尚不明確。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、麵積不大的銀屑病[1]、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非麵部）肥厚性瘢痕。

用於去頭屑、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬（汗斑）。

1. 抗炎作用　　　本品為局部用藥，為高效含氟和氯的皮質類固醇，具有抗炎、抗瘙癢和血管收縮作用。本品在去炎鬆的骨架上，以氯原子取代21位羥基，其血管收縮試驗測定抗炎效價倍數為360，已有證據認為血管收縮試驗強度與療效相一致。其抗炎止癢的作用機理是提高β受體對兒茶酸胺的反應性，通過激活腺苷環化酶使CAMP生成增多，並抑製磷酸乙酯酶使CAMP破壞減少，結果使細胞中cAMP年濃度增高，同時又抑製組織胺的釋放。本品抑製大鼠和小鼠肉芽腫增生的作用與地塞米鬆相似。用甲醛致小鼠和大鼠後足跟腫脹法觀察，本品和地塞米鬆均有明顯的抑製作用，而用高5倍量的氫化可的鬆也無抑製作用。本品對胸腺及脾髒有明顯的減重作用。2. 對各類細胞的選擇性藥理作用　　　減少T淋巴細胞、單核細胞、嗜酸性粒細胞數量，抑製淋巴細胞增殖及細胞因子生成，抑製巨噬細胞分化及吞噬活性，抑製中性粒細胞粘附，降低血管內皮細胞通透性，抑製成纖維細胞增殖及膠原合成，抑製皮脂腺細胞活性。3. 抗增生作用　　　本品具有抗有絲分裂作用，它降低PNA的轉錄，從而降低DNA的合成，也影響DNA的修複，結果使表皮變薄，尤其對膠原的合成影響最大。4. 免疫抑製作

具有抗皮脂溢性、抗頭屑、抗細菌和抗真菌及角質溶解作用。本品可與過氧化酶一胱氨酸結合，抑製表皮油脂中不飽和脂及酸過氧化，降低皮脂中脂肪酸含量。同時可抑製頭皮表皮細胞的生長，抑製核分裂造成表皮細胞更替減少。本品尚對頭癬的病原菌斷毛癬菌有殺火孢子作用。具有抗皮脂溢性、抗頭屑、抗細菌和抗真菌及角質溶解作用。本品可與過氧化酶一胱氨酸結合，抑製表皮油脂中不飽和脂及酸過氧化，降低皮脂中脂肪酸含量。同時可抑製頭皮表皮細胞的生長，抑製核分裂造成表皮細胞更替減少。本品尚對頭癬的病原菌斷毛癬菌有殺火孢子作用。

大麵積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥並尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.本品僅供外用，不可內服。 2.對本品過敏者禁用;皮膚有炎症、滲出者慎用。 3.在染發、燙發後兩天內不得使用本品。 4.頭皮用藥後應完全衝洗幹淨，以免頭發脫色。 5.避免接觸眼睛。 6.用前應充分搖勻，如天冷藥液變稠可溫熱後使用。 7.用後應塞緊瓶蓋。 8.不要用金屬器件接觸藥液，以免影響藥效。 9.如經2個或3個療程病症仍未見好轉請向醫師谘詢。 10.外用部位如有灼燒感、瘙癢、紅腫等情況，應停止用藥，並將局部藥物洗淨。必要時向醫師谘詢。 11.兒童必須在成人的監護下使用。 12.請將此藥品放在兒童不能接觸的地方。 13.當藥品性狀發生改變時禁止使用。