哈西奈德塗膜劑

哈西奈德塗膜劑

爐甘石洗劑

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒鬆。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

本品為複方製劑，每1000毫升含爐甘石150克、氧化鋅50克、甘油50毫升。輔料為純化水。

天津金耀藥業有限公司

江蘇華神藥業有限公司

國藥準字H10910061

國藥準字H20053895

激素類藥，適用於皮膚過敏性炎症的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用於急性瘙癢性皮膚病，如蕁麻疹和痱子。

塗於患處，每日1～2次。

局部外用，用時搖勻，取適量塗於患處，一日2-3次。

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尚不明確。

兒童注意事項： 應為麵積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

激素類藥，適用於皮膚過敏性炎症的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用於急性瘙癢性皮膚病，如蕁麻疹和痱子。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

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1. 避免接觸眼睛和黏膜；2. 皮膚破損處不宜使用；3. 過敏體質者慎用；4. 兒童需在成人監護下使用。