哈西奈德塗膜劑

哈西奈德塗膜劑

新黴素氟輕鬆乳膏

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒鬆。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

硫酸新黴素、醋酸氟輕鬆、冰片。

天津金耀藥業有限公司

唐山紅星藥業有限責任公司

國藥準字H10910061

國藥準字H13024012

激素類藥，適用於皮膚過敏性炎症的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用於過敏性皮炎、亞急性慢性濕疹、陰囊濕疹、皮膚瘙癢症和外陰瘙癢等。

塗於患處，每日1～2次。

外用。塗於皮膚患處，一日2-3次。

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對本品任何成份過敏者禁用；眼部禁用。

兒童注意事項： 應為麵積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

激素類藥，適用於皮膚過敏性炎症的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用於過敏性皮炎、亞急性慢性濕疹、陰囊濕疹、皮膚瘙癢症和外陰瘙癢等。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

1.長期和大麵積應用，可引起皮膚萎縮、毛細血管擴張、發生痤瘡皮炎、口周皮炎、毛囊炎、增加感染的易感性等。 2.偶可引起變態反應性接觸性皮炎。

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1.本品不能長期、大麵積使用。 2.應用於麵部及皮膚皺褶部位應慎重權衡利弊。 3.新黴素與慶大黴素有交叉過敏。