哈西奈德塗膜劑

哈西奈德塗膜劑

二硫化硒洗劑

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒鬆。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。輔料為：二氧化鈦、甘油、皂土、枸櫞酸、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯、N.N-油酰甲基硫磺酸鹽、十二烷基甜菜堿、十二烷基硫酸鈉、二氧化鈦、檸檬酸、單硬脂酸甘油脂、硫酸二氫鈉、皂土、羊毛脂、甘油、香精、純化水。

天津金耀藥業有限公司

江蘇迪賽諾製藥有限公司

國藥準字H10910061

國藥準字H10800003

激素類藥，適用於皮膚過敏性炎症的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用於去頭屑、防治皮脂溢出、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬(汗斑)。

塗於患處，每日1～2次。

1.治療頭皮屑和頭皮脂溢性皮炎。(1)先用肥皂清洗頭發和頭皮。(2)取5～10克藥液於濕發及頭皮上，輕揉至出泡沫。(3)待3～5分鍾後，用溫水洗淨，必要時可重複一次。(4)每周2次，一個療程2～4周，必要時可重複1個或2個療程。2.治療花斑癬。(1)洗淨患處。(2)根據病患麵積取適量藥液塗抹(一般10至30克)。(3)保留10～30分鍾後用溫水洗淨。(4)每周2次，一個療程2～4周，必要時可重複1個或2個療程。

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偶可引起接觸性皮炎、頭發或頭皮幹燥、頭發脫色。

兒童注意事項： 應為麵積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

激素類藥，適用於皮膚過敏性炎症的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

用於去頭屑、防治皮脂溢出、頭皮脂溢性皮炎、花斑癬(汗斑)。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

本品具有抗皮脂溢出作用，還具有一定的抗真菌作用。

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1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 過敏體質者慎用；4. 避免與酸性物質接觸；5. 儲存於陰涼幹燥處。