哈西奈德乳膏

哈西奈德乳膏

氧氟沙星乳膏

本品主要成份為哈西奈德

含氧氟沙星(C18H20FN3O4)應為標示量90.0-110.0%。

新鄉華青藥業有限公司

國藥集團三益藥業(蕪湖)有限公司

國藥準字H41021743

國藥準字H10950096

適用於接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、麵積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非麵部)肥厚性瘢痕。

用於治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合並感染、外傷感染、癬病合並感染及其他化膿性皮膚感染等。

外塗患處，每日早晚各一次。

外用。每日塗患處2-3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用。

適用於接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、麵積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非麵部)肥厚性瘢痕。

用於治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合並感染、外傷感染、癬病合並感染及其他化膿性皮膚感染等。

少數患者塗藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮後繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品具廣譜抗菌作用，尤其對需氧革蘭陰性杆菌的抗菌活性高，對下列細菌在體外具良好抗菌作用：腸杆菌科的大部分細菌，包括枸椽酸杆菌屬、陰溝、產氣腸杆菌等腸杆菌屬、大腸埃希菌、克雷伯菌屬、變形杆菌屬、沙門菌屬、誌賀菌屬、弧菌屬、耶爾森菌等。常對多重耐藥菌也具有抗菌活性。對青黴素耐藥的淋病奈瑟菌、產酶流感杆菌和莫拉菌屬均具有高度抗菌活性。對銅綠假單胞菌等假單胞菌屬的大多數菌株具抗菌作用。本品對甲氧西林敏感葡萄球菌具抗菌活性，對肺炎鏈球菌、溶血性鏈球菌和糞腸球菌僅具中等抗菌活性。對沙眼衣原體、支原體、軍團菌具良好抗微生物作用，對結核杆菌和非典型分枝杆菌也有抗菌活性。對厭氧菌的抗菌活性差。氧氟沙星為殺菌劑，通過作用於細菌DNA螺旋酶的A亞單位，抑製DNA的合成和複製而導致細菌死亡。

大麵積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥並尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書並遵醫囑使用。

對本品和其他喹諾酮類藥物過敏者禁用，出現過敏症狀應立即停藥。